文/吕栋“中国半导体设备制造商新凯来（SiCarrier）在上海的行业活动中抢尽风头，首次推出新的芯片制造设备，有望在美国出口管制下增强中国自力更生的能力”《南华早报》写道3月26日，半导体行业重要展会SEMICON China 2025在上海开幕。

被称为“国家队”的新凯来首次亮相便引爆关注，大批参观者、媒体、业内同行和潜在客户拥挤在新凯来展台

在现场，新凯来展示了工艺装备、量检测装备等全系列产品，并发布五款以中国名山命名的半导体设备，包括外延沉积设备EPI（峨眉山）、原子层沉积设备ALD（阿里山）、物理气相沉积设备PVD（普陀山）、刻蚀设备ETCH（武夷山）和薄膜沉积设备CVD（长白山）等。

“这五大设备的成功研发，是公司多年技术积累的集中体现，也是国产半导体设备从跟跑到并跑的重要里程碑我们将继续加大研发投入，力争在未来三年内实现更多关键设备的国产化替代”新凯来高管在展会现场表示新凯来成立于2021年8月，由深圳市国资委100%持股。

官网提到，新凯来致力于半导体装备及零部件、电子制造设备的研发、制造、销售与服务，公司核心团队具备20年以上电子设备技术开发经验，并联合了众多国内半导体制造设备和零部件合作伙伴，“将国内最优秀的电子制造解决方案和生产测试装备推介给行业客户，促进产业能力提升。

”

行业分析称，新凯来此次展示的高精度薄膜沉积设备采用独特的反应腔设计，能够实现纳米级薄膜均匀性控制，技术参数已接近国际领先水平而新一代涂胶显影设备则突破国外技术垄断，在分辨率和产能方面达到业界先进标准，可满足14纳米及以上制程工艺需求。

活动现场一名新凯来工作人员表示，其中一些设备（包括不在产品清单上的刻蚀设备）能够支持5纳米芯片的生产官方视频强调了新凯来“100%自主可控”的机器控制系统和操作软件，并大力宣传该公司内部开发或通过战略合作伙伴开发的“自主可控”关键部件。

新凯来此次并未展出最受关注的芯片制造设备光刻机，但依然引发了多家外媒的关注“新凯来展位吸引了众多渴望了解更多信息的参观者，产品手册很快被一抢而空该公司网站目前只列出四种低技术含量的芯片制造工具，而其手册则包括多个系列的数十种产品，这些产品都以中国著名山脉命名，这让许多与会者争相获取更多信息。

”《南华早报》称《日经亚洲评论》援引知情人士的消息称，新凯来已经启动了许多涉及芯片制造不同工艺步骤的项目，基本上希望制造所有类型的设备该人士称，新凯来宣布已制造出可生产28纳米芯片或更先进芯片的光刻机，但仍然难以验证是否能够顺利实现此类机器的商业化。

美国芯片设备制造商泛林半导体和芯片设计软件开发商西门子EDA，在此次活动中派出了演讲者，尽管他们没有参展长江存储科技董事长兼首席执行官、中国半导体行业协会理事长陈南翔，华虹半导体执行董事、总裁白鹏等行业领袖也在活动上发表演讲。

白鹏指出，摩尔定律的放缓为成熟节点芯片和异构集成带来了更多机会异构集成是一种先进的封装技术，在高带宽存储器和高性能计算芯片领域越来越受到青睐新凯来的国内同行也相继亮相中微公司官微宣布，通过不断提升反应台之间气体控制的精度，ICP双反应台刻蚀机Primo Twin-Star又取得新的突破，并发布发布首款晶圆边缘刻蚀设备。

北方华创正式宣布，进军离子注入设备市场，并发布首款离子注入机“去年是北方华创，今年是新凯来”活动现场，上海一家晶圆厂工作的王姓参观者称还有两名参会者来自苏州一家工业软件开发公司，他们对无法与新凯来代表详细讨论潜在合作感到沮丧。

其中一人表示：“新凯来客户经理今天太忙了，没时间坐下来谈”返回搜狐，查看更多